台積電首個EUV工藝的N7+開始向客戶交付産品

Allen Yin 发表于 2019-10-09 10:10:56 收藏 已收藏
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台積電首個EUV工藝的N7+開始向客戶交付産品

Allen Yin 发表于 2019-10-09 10:10:56
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10月7日,台積電宣布,其業界首款可商用的極紫外(EUV)光刻技術七納米plus(N7+)將向客戶交付産品。采用EUV技術的N7+工藝建立在台積電成功的7nm節點之上,爲6nm及更先進的技術鋪平了道路。

N7+的量産是有史記錄以來最快之一。N7+于2019年第二季度開始量産,其産量與最初的N7工藝(已超過一年的産量)相近。

N7+還提供了改進的整體性能。與N7工藝相比,N7+的密度提高了15%至20%,並降低了功耗,這使其成爲行業下一波産品越來越受歡迎的首選。台積電一直在快速部署容量以滿足由多個客戶驅動的N7+需求。

EUV技術使台積電能夠繼續推動芯片尺寸的開發,因爲較短波長的EUV光能夠更好地打印出先進技術設計的納米級特征。台積電的EUV工具已達到生産成熟度,工具的可用性已達到批量生産的目標,並且在日常操作中的輸出功率大于250瓦。

“隨著AI和5G的不斷湧現,使IC改善生活的新方法如此之多,我們的客戶充滿了創新的前沿設計理念,他們依靠台積電的技術和制造來使它們成爲現實,”台積電業務發展副總裁張凱文博士說。“我們在EUV上的成功讓台積電不僅使那些領先的設計成爲可能,而且憑借我們卓越的制造能力實現了大批量交付的又一個很好的例子。”

基于其成功的經驗,N7+爲未來的先進工藝技術奠定了基礎。台積電將在2020年第一季度將N6技術投入風險生産,並在年底之前實現量産。隨著EUV的進一步應用,N6的邏輯密度將比N7高18%,並且與N7完全兼容的設計規則使客戶可以大大縮短産品上市時間。

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